等離子設備中頻，射頻等離子處理機型；處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉鼓等真空等離子處理設備和噴射、準輝光、隧道、水平線多種常壓等離子處理設備；
等離子處理機具有高穩定性、、高均勻性等諸多優點。
特色鮮明的處理腔體形狀和電結構可以滿足不同形狀、不同材質的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。
低溫等離子體表面處理設備、水平式低溫等離子體表面處理設備、卷對卷式低溫等離子體表面處理設備、以及大氣壓輝光放電表面處理設備。
低溫等離子體的電離率較低，電子溫度遠高于離子溫度，離子溫度甚至可與室溫相當。所以低溫等離子體是非熱平衡等離子體，低溫等離子體中存在著大量的、種類繁多的活性粒子，比通常的化學反映所產生的活性粒子種類 多、活性 強， 易于和所接觸的材料表面發生反映，因此它們被用來對材料表面進行改性處理。
與傳統的方法相比，等離子體表面處理具有成本低、無廢棄物、 等顯著的優點，同時可以傳統的化學方法難以達到的處理效果?，F在低溫等離子設備廣泛運用于金屬、微電子、聚合物、生物功能材料、低溫及污染治理等多種領域。
